DH2008 系列微波 CVD 薄膜制備裝置
本裝置由公司和武漢工程大學聯(lián)合研制，由微波源、真空系統(tǒng)、供氣系統(tǒng)、微波傳輸及微波諧振腔等部分組成。適合大學近現(xiàn)代物理、材料、化學等領域進行微波 CVD 原理與方法的教學、研究，金剛石與類金剛石薄膜制備實驗及科學研究，以及用于生長碳納米管、氮化硅、碳化硅等超硬膜，具有生長速度快、操作簡便、性價比高等優(yōu)點。同時可完成等離子體刻蝕加工實驗、微波等離子體表面改性等實驗。
技術參數(shù)
上一個：沒有了！
下一個：直流輝光等離子體實驗裝置
